ULVAC/日本爱发科光学电子束枪“型号：“EGO模型"这是一把高度可靠的EB枪，专为光学应用开发，基于Albac多年积累的专业知识。

产品型号：EGO-40M
厂商性质：经销商
更新时间：2026-06-22
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ULVAC/日本爱发科光学电子束枪，型号：EGO-40M

电子束气相沉积（EB气相沉积）是一种利用电子束加热和蒸发材料，在基板上形成薄膜的技术。该技术以能够形成高精度、高纯度薄膜为特征，并被广泛应用于多个领域。它特别适合高熔点材料和需要高纯度的薄膜形成，广泛应用于光学、电子和装饰等多个工业领域。

电子束气相沉积（EB气相沉积）被广泛应用于多个领域。应用大致分为两种膜类型，代表性如下。
（1）光学薄膜
・镜片和镜面上的防反射涂层（AR涂层）
・反射性和干涉膜（如激光光学元件和滤光片）
·光学元件
高精度多层涂层（2）金属薄膜
・半导体、集成电路（IC）电
极膜的形成 ·装饰品表面涂层 EB
沉积成功的关键在于妥善管理以下要点：
·真空环境
管理・电子束控制
・材料和基底质量控制
·薄膜厚度和沉积速率的稳定：通过妥善管理
这些措施并全面实施安全措施，可以实现稳定的工艺和高质量的薄膜形成。

电子枪（电子束枪）用于电晶电磁气沉积，是一种利用电子束加热并汽化材料的装置。与传统电阻加热相比，它可以加热到更高温度，从而实现即使是高熔点材料也能高效蒸发。另一个主要特点是其高精度和能够形成均匀薄膜的能力。 Alback还提供一系列适用于各种应用的电子枪（电子束枪）

特色

由于电子束被电磁场偏转，次级电子对基底的影响极小。
即使是升华材料，也可以沿X轴和Y轴扫描，以消除钻孔，促进平滑蒸发。（日本**831485，注册号为843447）
由于电子束以270°偏转，因此不会暴露在蒸发物质的蒸气中，丝状物寿命较长。
由于发射极组件易于安装和拆卸，更换耗材、绝缘体及类似部件非常简单。

规格

模型		EGO-1G	EGO-40M
束流偏转角		270°
坩埚计数		0	4
坩埚容量		-	10cc ×2 / 40cc ×2
坩埚尺寸：顶部×底部×深度		-	32Φ×24Φ×15H （毫米）/50Φ×41Φ×25H （毫米）
冷却水体积	哈斯	-	10升/分钟或更高
	其他	2升/分钟	-
外部尺寸：W×D×H（不包括突出部分）		166×285×174（毫米）	170×309×174（毫米）
质量		约12.5公斤	大约18公斤
最大加速电压		-10kV
最大发射电流		1.0A	0.6A/1.0A
适用电源		HPS-1000N-100/HPS-1000N-200