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2026-06-05 2026-10-08 2026-09-11 2026-10-13 2026-09-08 
产品型号：EGK-3厂商性质：经销商更新时间：2026-06-22访 问 量：186
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ULVAC/日本爱发科实验金属电子束枪，型号：EGK-3
ULVAC/日本爱发科实验金属电子束枪，型号：EGK-3
电子束气相沉积（EB气相沉积）是一种利用电子束加热和蒸发材料，在基板上形成薄膜的技术。 该技术以能够形成高精度、高纯度薄膜为特征，并被广泛应用于多个领域。 它特别适合高熔点材料和需要高纯度的薄膜形成，广泛应用于光学、电子和装饰等多个工业领域。
电子束气相沉积（EB气相沉积）被广泛应用于多个领域。 应用大致分为两种膜类型，代表性如下。
（1）光学薄膜
・镜片和镜面上的防反射涂层（AR涂层）
・反射性和干涉膜（如激光光学元件和滤光片）
·光学元件
高精度多层涂层 （2） 金属薄膜
・半导体、集成电路（IC） 电
极膜的形成 ·装饰品表面涂层 EB
沉积成功的关键在于妥善管理以下要点：
·真空环境
管理 ・电子束控制
・材料和基底质量控制
·薄膜厚度和沉积速率的稳定：通过妥善管理
这些措施并全面实施安全措施，可以实现稳定的工艺和高质量的薄膜形成。
电子枪（电子束枪）用于电晶电磁气沉积，是一种利用电子束加热并汽化材料的装置。 与传统电阻加热相比，它可以加热到更高温度，从而实现即使是高熔点材料也能高效蒸发。 另一个主要特点是其高精度和能够形成均匀薄膜的能力。 Alback还提供一系列适用于各种应用的电子枪（电子束枪）
采用2.6cc Haas发动机使其适合小规模生产。
由于电子束会被电磁场偏转，次级电子对沉积物体的影响极小。
甚至可以沿X轴和Y轴光束点扫描升华材料，消除部分打孔现象，使整个坩埚平稳蒸发。 （日本**831485，注册号为843447）
由于电子束被偏转225°，因此不会暴露在蒸发材料的蒸气中，丝状物寿命较长。
由于发射极组件易于安装和拆卸，更换耗材、绝缘体及类似部件非常简单。
| 模型 | EGK-3 | EGK-3M | |
| 电子束偏转角 | 225° | ||
| 坩埚计数 | 1 | 4 | |
| 坩埚容量 | 2.6cc | 2.9cc | |
| 坩埚尺寸：顶部×底部×深度 | 21Φ×15.6Φ×10H（毫米） | 21Φ×17.5Φ×10H（毫米） | |
| 冷却水体积 | 哈斯 | 超过8升/分钟 | |
| 其他 | 1升/分钟或更高 | ||
| 外部尺寸（W×D×H）不包括突出物 | 110×207×126（毫米） | 140×207×126（毫米） | |
| 质量 | 大约4公斤 | 大约5公斤 | |
| 沉积率 | 0.5μm/min或 更高（Al/5kW/正好在Haass 250H上方） | 0.6微米/分钟或 更高（正好在Haas 250H上方的Al/5kW） | |
| 最大加速电压 | -10kV | ||
| 最大发射电流 | 0.5A | ||
| 适用电源 | HPS-510S | ||
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