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2026-06-05 2026-10-08 2026-09-11 2026-10-13 2026-09-08 
产品型号：EGL-103S厂商性质：经销商更新时间：2026-06-22访 问 量：191
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ULVAC/日本爱发科金属电子束枪，型号：EGL-103S
ULVAC/日本爱发科金属电子束枪，型号：EGL-103S
电子束气相沉积（EB气相沉积）是一种利用电子束加热和蒸发材料，在基板上形成薄膜的技术。 该技术以能够形成高精度、高纯度薄膜为特征，并被广泛应用于多个领域。 它特别适合高熔点材料和需要高纯度的薄膜形成，广泛应用于光学、电子和装饰等多个工业领域。
电子束气相沉积（EB气相沉积）被广泛应用于多个领域。 应用大致分为两种膜类型，代表性如下。
（1）光学薄膜
・镜片和镜面上的防反射涂层（AR涂层）
・反射性和干涉膜（如激光光学元件和滤光片）
·光学元件
高精度多层涂层 （2） 金属薄膜
・半导体、集成电路（IC） 电
极膜的形成 ·装饰品表面涂层 EB
沉积成功的关键在于妥善管理以下要点：
·真空环境
管理 ・电子束控制
・材料和基底质量控制
·薄膜厚度和沉积速率的稳定：通过妥善管理
这些措施并全面实施安全措施，可以实现稳定的工艺和高质量的薄膜形成。
电子枪（电子束枪）用于电晶电磁气沉积，是一种利用电子束加热并汽化材料的装置。 与传统电阻加热相比，它可以加热到更高温度，从而实现即使是高熔点材料也能高效蒸发。 另一个主要特点是其高精度和能够形成均匀薄膜的能力。 Alback还提供一系列适用于各种应用的电子枪（电子束枪）
由于电子束被电磁场偏转，次级电子对基底的影响极小。
即使是升华材料，也可以沿X轴和Y轴扫描，以消除钻孔，促进平滑蒸发。 （日本**831485，注册号为843447）
由于电子束以270°偏转，因此不会暴露在蒸发物质的蒸气中，丝状物寿命较长。
由于发射极组件易于安装和拆卸，更换耗材、绝缘体及类似部件非常简单。
| 模型 | EGL-103S | EGL-35 | EGL-35M | EGL-110 | EGL-80M | |
| 电子束偏转角 | 270° | |||||
| 坩埚计数 | 3 | 1 | 4 | 1 | 4 | |
| 坩埚容量 | 10cc | 40cc | 40cc ×2/10cc×2 | 110cc | ||
| 坩埚尺寸：顶部×底部×深度 | 35Φ×31Φ×11H（毫米） | 50Φ×41Φ×25H（mm） | 50Φ×41Φ×25H（mm）/32Φ×24Φ×15H（mm） | 75Φ×59Φ×32H（毫米） | 75Φ×57Φ×32H（毫米） | |
| 冷却水体积 | 哈斯 | 10升/分钟或更高 | 19升/分钟及以上 | 20升/分钟及以上 | ||
| 其他 | 2升/分钟或更高 | - | 2升/分钟或更高 | — | 4升/分钟或更高 | |
| 外部尺寸（W×D×H）不包括突出物 | 313×250×108（毫米） | 160×206×79（毫米） | 170×240×156（毫米） | 136×220×90（毫米） | 265×318×168（毫米） | |
| 质量 | 大约16公斤 | 大约10公斤 | 大约18公斤 | 大约15公斤 | 大约30公斤 | |
| 沉积率 | - | 1.8微米/分钟或 更高（250H炉口正上方 的铝/8千瓦/） | 1.6微米/分钟或更高 （Al/8kW/正好在 Haass 250H上方） | 4.5微米/分钟或更高 （心脏正上方 的Al/16kW/250H） | 4微米/分或 更高（Al/16kW/直接高于 Haas 250H） | |
| 最大加速电压 | -10kV | |||||
| 最大发射电流 | 0.6A | 1.0A | 1.6A | |||
| 适用电源 | HPS-1000N-100/HPS-1000N-200 | HPS-1600F-DS100/ HPS-1600F-DS200 | HPS-1600F-DS101 | |||
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