SEN/日森桌上紫外线清洁与改质设备PM2001N-3
适用于各种UV照射装置的 灯具强度管理

核心清洗原理（干式无药液）

1. 185nm 真空紫外：电离空气生成臭氧，强氧化分解工件表面指纹、油污、脱模剂、有机微粒；

2. 254nm 紫外：直接打断有机物分子化学键，剥离纳米级污染物；

3. 双重作用同步完成表面除污 + 表面活化改性，不划伤精密基材。

关键硬件规格

1. 光源配置：内置 3 支原装长寿命紫外灯管，照射面积更大、能量更均匀；

2. 有效照射尺寸：200×200mm，兼容中小型基板、晶圆、镜片、塑胶件；

3. 旋转载台：腔体内置转盘，360° 均匀辐照，消除照射盲区；

4. 安全结构：封闭式腔体 + 门联锁（开门立刻切断 UV 光源）；内置静音臭氧排风，及时排出臭氧；

5. 控制系统：双数显面板，可独立设定照射时长、间隔时间，支持循环批量加工；

6. 供电：稳压电路，电压波动不影响紫外输出稳定性，适配无尘车间。

核心功能（清洗 + 表面改性）

1. 纳米级有机污染物清除

   去除硅片、玻璃、光学镜片、塑胶表面油脂、光刻胶残渍、脱模剂、手指印；可做光刻胶灰化、电镀前预处理。

2. 基材表面活化（提升附着力）

• 降低水接触角，大幅提升树脂润湿性；

• 粘接、点胶、镀膜、印刷前预处理，杜绝脱胶、掉膜、色差；

3. 适用基材

   硅晶圆、光学玻璃 / 石英、PET/PC/ 亚克力塑胶、陶瓷、金属、薄膜、医疗器械基材。

主要应用行业

• 半导体 / 微电子：晶圆、载板、光刻工艺前处理；

• 光学行业：镜头、镜片、镀膜基材清洗活化；

• 精密塑胶：手机外壳、光学元件粘接预处理；

• 医疗耗材：高分子器械粘接前洁净处理；

• 实验室研发：材料表面改性、润湿性测试小样处理；

• 电镀 / 喷涂：工件前处理，提升涂层结合力。

设备优势对比

1. 台式小型机，桌面摆放，无需大型产线空间，兼顾实验室 + 小批量生产；

2. 干式清洗，无酸碱溶剂、无废水，环保且不伤超薄 / 软质基材；

3. 三灯 + 转盘设计，同尺寸机型照射均匀度优于单 / 双灯台式 UV 清洗机；

4. 灯管模块化独立更换，维护简单，长期运行能量衰减平缓；

5. 自带臭氧排风，避免臭氧腐蚀车间设备、危害操作人员。