SEN/日森真空表面清洁与改质设备PL1-1107A
工业量产真空型UV 光洗净设备，带真空腔体，大面积、高洁净等级生产用机型

核心标准参数

1. 照射有效面积：300mm × 400mm（远大于 PM2001N-3 的 200×200mm）

2. 真空腔体：极限真空 0~0.001 Torr，真空环境下 UV 辐照，无臭氧干扰、洁净度更高

3. 光源配置：7 支原装 SUV110US 双波段紫外灯，总灯管功率 665W

4. 紫外波段：185nm（产臭氧 / 氧化）+254nm（断有机分子键）双波段同步输出

5. UV 能量：距离 10mm 处辐照强度 15mW/cm²

6. 整机尺寸：W660 × D1125 × H1250 mm

7. 供电 / 功耗：AC200V 50Hz，整机总耗电 2800W

8. 腔体结构：前开门密封真空仓，内置工件载台，配套真空机组一体化机身带脚轮

工作原理（真空优势）

1. 真空无氧气，185nm 直接打断有机物化学键；

2. 污染物直接气化抽走，无臭氧残留、无二次氧化污染；

3. 适合超高洁净度光学、半导体工件，避免臭氧腐蚀精密镀膜层

核心功能

1. 纳米级干式除污

   去除指纹、脱模剂、油脂、光刻胶残胶、有机微粒、脱模残留，无溶剂、无废水。

2. 表面活化改质

   大幅降低基材水接触角，提升镀膜、粘接、点胶、印刷附着力，杜绝脱膜、分层。

适用行业 & 工件

• 光学：镜头、棱镜、石英镜片、光学镀膜基板、红外透镜

• 半导体 / 显示：晶圆、PCB、LCD 玻璃、ITO 导电玻璃、掩膜版

• 精密电子、医疗高分子、陶瓷、金属镀层前处理

• 光学元件量产产线大批量预处理