可以从大气压到高真空无需定期维护，如加水或更换机油

节能且紧凑的设计。令人安心的*支持和丰富的产品阵容

Ebara干式真空泵以节能和小巧著称，广泛应用于多个领域。独特优化的旋翼设计提高了压缩效率，实现了低功耗。由于其紧凑轻便的设计，能够安装在有限的空间内，且易于搬迁。我们已向*出货超过20万台*，活跃于多个领域，主要集中在半导体行业，对性能和可靠性的要求非常严格。

干式真空泵是一种不使用油或液体密封的非接触式真空泵。它们实现了干净的真空，没有水和油的回流或扩散。此外，无需定期维护，如加水或更换水或机油，操作非常简单。它是半导体制造工艺和FPD/LED/太阳能电池制造过程中的泵，这些工艺强调清洁性。近年来，它们的应用范围扩大，因为它能够轻松、干净地从质谱仪和电子显微镜等分析仪中提取气体。此外，由于清洁的真空和便捷的维护，它们也被应用于真空干燥工艺和薄膜沉积工艺等多种领域。

日本EBARA/荏原低消耗干式真空泵燃烧型排气减排系统

G5系列

燃烧型排气减排系统，能高效处理气体和全氟碳化合物（PFCs）

• 燃烧型排气减排系统

• 多种气体类型的批量处理

• 高效消灭前层叶

• 副产物去除措施/粉末状副产物的自动去除

• 低运行成本

• 高持续时间

• 按需运行以适应气体类型和体积

• 维护更便捷

• 可获得CE认证/半级S2/NRTL认证

• 特色与优势

• G5系列是一种燃烧式排气排放系统，能够高效地去除制造过程中使用的多种气体。能够批量处理多种气体，并高效处理通常难以去除的PFCs。通过独特的副产品去除措施和可变燃料体积的按需运行，以适应被排减的气体种类和体积，G5型实现了运行成本的降低。非常适合半导体、液晶面板、太阳能电池和LED、化学材料制造以及研究实验室等电气元件的制造操作。产品线包括流量为1200升/分钟的大容量型号。

• 规格

• 类型		单位	G5-350 A1~A4/P1~P4	G5-500 A1~A4/P1~P4	G5-600 A1~A4/P1~P4	G5-1200 A1~A4/P1~P4
  减排方法			燃烧+湿润	燃烧+湿润	燃烧+湿润	燃烧+湿润
  最大流入气体体积		L/min	350	500	600	1200
  燃料			城市燃气或丙烷燃气	城市燃气或丙烷燃气	城市燃气或丙烷燃气	城市燃气或丙烷燃气
  尺寸		宽 x 深 x 高 毫米	1200 x 650 x 1900	1200 x 650 x 1900	1200 x 1100 x 2000	1200 x 1100 x 2200
  气体（例如）			工艺（depo）气体 清洁气体，包括 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、 H2 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等。 蚀刻气体——所有类型的 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等。 PFCs为 CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等。	工艺（depo）气体 清洁气体，包括 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、 H2 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等。 蚀刻气体——所有类型的 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等。 PFCs为 CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等。	工艺（depo）气体： SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 清洁气体——所有类型的 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等。 蚀刻气体——所有类型的 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等。 PFCs为 CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等。	工艺（depo）气体： SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 清洁气体——所有类型的 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等。 蚀刻气体——所有类型的 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等。 PFCs为 CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等。
  标准装备			用于粉末清除的燃烧刮刀	用于粉末清除的燃烧刮刀	用于粉末清除的燃烧刮刀	用于粉末清除的燃烧刮刀
  选项			市政用水/排水消耗减少单元	市政用水/排水消耗减少单元	市政用水/排水消耗减少单元	市政用水/排水消耗减少单元