日本ULVAC/日本爱发科晶体薄膜沉积控制器型号：CRTM-R1是一种基于Alvac长期培养技术开发的晶体型薄膜沉积控制器。通过采用新的测量方法，它实现了速率稳定性和比传统型号更高的分辨率。它适用于从金属到光学薄膜的多种沉积工艺。

产品型号：CRTM-R1
厂商性质：经销商
更新时间：2026-06-18
访问量：171

联系电话：0592-6689389

日本ULVAC/日本爱发科晶体薄膜沉积控制器，型号：CRTM-R1

日本ULVAC/日本爱发科晶体薄膜沉积控制器，型号： CRTM-R1

特色

采用新的测量方法大大提升了速率稳定性。
能力（CI值）测量提升了晶体板的异常检测能力。
凭借出色的胶片厚度和速率分辨率（0.0018Å @5MHz），也非常适合低速率沉积控制。
最多可同时控制8个沉积。（添加选项时）
通信方式支持以太网和RS-232C。
主机上存储的各种日志数据可以以CSV格式传输到USB。

目的

金属和光学薄膜沉积过程中的薄膜厚度和速率控制

规格

频率	测量范围	4.00~3.00MHz@4MHz 5.00~3.50MHz@5MHz 6.00~4.50MHz@6MHz
	测量分辨率	1 MHz
	表示分辨率	1 MHz
沉积率	测量范围*1	0.000~999.9Å/s （0~99.99nm/s）
	测量分辨率*2	0.0028Å/s @4MHz 0.0018Å/s @5MHz 0.0012Å/s @6MHz
	表示分辨率*1	0.001Å/s
薄膜厚度	测量范围*1	0.000~9999kÅ （0~999.9μm）
	测量分辨率*2	0.0028Å @4MHz 0.0018Å @5MHz 0.0012Å @6MHz
	表示分辨率*1	0.001kÅ
支持的传感器频率		4MHz、5MHz、6MHz
可安装传感器数量（单一）		2（选项包括MAX8，IF卡：每张卡2张×4张卡）
可安装传感器数量（多枚）		2（选项包括MAX8，IF卡：每张卡2张×4张卡）
采样率		100毫秒
车库项目数量		999
流程项目数量		99
数字输入分数		14张（可选最多56张，DIO卡：每张14分×4张卡牌）
数字输出评分		8（MAX32、DIO卡选项：每张卡8件物品×4张卡牌）
模拟输出点		2张（MAX16选项，IF卡：每张2分×4张卡+AO卡：每张8分×1张卡）
模拟输出范围		-10~+10V
沟通方法		局域网（以太网）（1000BASE-T/100BASE-TX/10BASE-T） RS-232C USB2.0 Type-B
外部尺寸（宽度×深度×高度）		CRTM-R1：约480×约320×约130毫米 CTM（-D）选项：约80×约152×约53毫米
重量 kg		CRTM-R1：5.3公斤（最高可选配：5.8公斤） CTM（-D）选装：0.6公斤
实用性		交流 100~240V±10%，50/60Hz
最大功耗		150W
兼容保险丝		250V2.5A（2个5×20毫米）
知识产权保护等级		IP20
过电压类别		第二类。
高海拔条件		海拔2000米以下
污染水平		2
使用环境		温度：5~40°C，湿度：相对湿度20~85%（无冷凝水）仅限室内
存储环境		温度：-10~60°C（无电，无冷凝）湿度：相对湿度20~85%（无冷凝）
热身时间		大约30分钟
兼容规范		CE