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OHKURA/大仓解调器立式热处理炉控制器

OHKURA/大仓解调器立式热处理炉控制器DF2600该设备是一种垂直热处理炉(扩散炉)系统,用于半导体制造的热处理过程。 我们以合理的价格提供传统半导体工厂使用的大容量热处理炉,并灵活地根据用户需求量身定制个性化规格。

  • 产品型号:DF2600系列
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-10-10
  • 访  问  量:201
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产品详情

OHKURA/大仓解调器立式热处理炉控制器DF2600系列

OHKURA/大仓解调器立式热处理炉控制器DF2600系列

DF2600 是日本大仓电气整机立式扩散热处理炉,用于半导体晶圆氧化、扩散、退火工艺;你提到的解调器 / 控制器是设备内置整套控制通信单元,配套自研温控主板 + ET 系列信息传输解调模块(和 ET0100 同通信体系),实现炉体温度、气路、机台 I/O 远程解调传输与全自动工艺管控。

特色

■ 成本效益:在引入时为客户提供响应的定制
和缩短的安装时间,实现
了实惠的价格
■ 安装性能
:设备外部
兼容现有洁净室 主单元尺寸:H2600×W900×D1280

■ 维护性能
:关键组件和软件由内部开发,支持未来
持续维护
。■ 可定制性能:可
满足
客户需求,提供多种定制。
■ 产品性能:节省占地
面积,可替代
水平炉
■ 能效性能:通过开发
高效加热器,实现
了比我公司节省10%的能源 可选支持支持高速温度调节和高温过程

规格
● 基本规格
结构:垂直向下开启法
加工晶圆直径:4.5,6.8英寸
处理的纸张数量:工艺晶圆:150片晶圆(6英寸或更小),100片晶圆(8英寸)
磁带存储:最多8个磁带(6英寸或更小),包括工艺盒和假盒
最多6盒磁带(8英寸或更小),包括工艺盒和假盒
优点:湿式、干式、退火等。
燃气使用情况:N2、O2、H2等
硅片处理:固定为3张(标准),一次5张/1张(可选)
供暖和制冷速率:加热最高
10°C/min,冷却最高3°C/分钟




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