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测量仪器胶片厚度监视器

OTSUKA/大塚电子测量仪器胶片厚度监视器 FE-300F

这是一种紧凑、低成本的薄膜厚度计,便于高精度光学干涉薄膜厚度测量。
我们采用了一体化外壳,将必要设备置于主机内,实现稳定的数据采集。
尽管成本低廉,获得绝对反射率还使得光学常数的分析成为可能。

  • 产品型号:FE-300F
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-08-04
  • 访  问  量:145
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产品详情

OTSUKA/大塚电子测量仪器胶片厚度监视器FE-300F 

OTSUKA/大塚电子测量仪器胶片厚度监视器 FE-300F

产品信息

特色
  • 体积紧凑、成本低且操作简便,用于测量胶片厚度

  • 通过选择光谱仪和光源,可选择胶片厚度范围

  • 条件设置和测量操作简单。 任何人都能轻松测量

  • 配备实时监控和仿真功能

  • 其测量斑点直径为φ1.2毫米,支持
    从3nm~35μm薄膜到厚薄膜的广泛测量。

 

测量项目
  • 绝对反射率测量

  • 薄膜厚度分析(10层)

  • 光学常数分析(n:折射率,k:衰变计数)

 

测量目标
  • 功能性薄膜、塑料
    透明导电薄膜(ITO、银纳米线)、相位对比薄膜、偏振薄膜、增强现实薄膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、粘合剂、保护薄膜、硬涂层、指纹防护剂等。

  • 半导体:
    化合物半导体、硅、氧化膜、氮化物薄膜、抗蚀剂、硅化碳、砷化镓、镓镓、InP、镰铀、镰酸、铀铵、铵铀、铵铀、铵晶、蓝宝石等。

  • 表面处理:
    DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。

  • 光学材料:
    滤光片、AR涂层等。

  • FPD
    LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有机胶片、密封剂)等。

  • 其他的有硬盘
    、磁带、建筑材料等。

规格

地理位置
测量波长范围300~800纳米
测量薄膜厚度范围
(SiO)
2转换)
3nm~35μm
点状路径φ1.2毫米
样本量φ200×5(H)mm
测量时间0.1~10秒以内
电源AC100V±10% 300VA
尺寸与重量280(W)×570(D)×350(H)mm、24kg



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