OTSUKA/大塚电子测量仪器光谱椭圆仪 FE-5000 系列

除了能够高精度薄膜分析的光谱镜片偏度外，我们还实现了自动调节角度测量机制，能够处理各种类型的薄膜。 除了传统的旋转光度计方法外，通过引入相位差板的自动安装和拆卸机构，提高了测量精度。

OTSUKA/大塚电子测量仪器光谱椭圆仪 FE-5000 系列

OTSUKA/大塚电子测量仪器光谱椭圆仪 FE-5000 系列

产品信息

• 能够测量紫外可见光（300~800nm）波长范围内的椭圆参数。

• 支持对纳米级多层薄膜的薄膜厚度分析

• 通过多通道光谱法对400多个通道的埃利普索光谱进行快速测量

• 支持通过可变反射角测量对薄膜进行详细分析。

• 通过添加光学常数数据库和配方注册功能提升操作性

• 椭圆参数（tanψ， cosΔ）测量

• 光学常数分析（n：折射率，K：衰减系数）

• 薄膜厚度分析

• 半导体晶圆：
  栅氧化层薄膜、氮化物薄膜SiO
  ₂，SixO y，SiN，SiON，SiNx，Al₂O₃，SiN_xO_y聚硅、ZnSe、BPSG、TiN
  电阻的光学常数（波长色散）

• 化合物半导体
  _x加_（1-x）作为多层薄膜，非晶硅

• FPD
  对准膜

• 各种新材料：
  DLC（类碳金刚石）、超导薄膜、磁头薄膜

• 光学薄膜
  TiO₂，SiO₂，防反射膜

• 光刻场：每个波长如
  g线（436nm）、h线（405nm）、i线（365nm）等各波长的n、k值

规格：

*1 具偏振片驱动能力，具备可安装和拆卸的相位对比板，用于死区。
*2 数值基于超大规模集成标准SiO2薄膜（100nm）。
*3 数值为自动选阶段时。